第242章 齐鲁微电子中心（3/3）

一个年轻女工程师正在显微镜下观察一片硅片。硅片只有指甲盖大小，表面有细微的图案。

“小周，给凌总看看。”倪光南说。

小周抬起头，脸有点红：“凌总好。”她把硅片从显微镜下取出来，小心地放在一个塑料托盘里，递给凌云。

硅片在灯光下泛着金属光泽，表面有规律的线条，线条边缘有些毛刺。

“这是我们在实验室条件下做的0.5微米线宽测试图形。”小周解释，“用的还是紫外接触式光刻，掩模版是自己用激光直写的。线宽不均匀，但能看出图形。”

“成品率多少？”凌云问。

“很低……不到5%。”小周声音小了，“主要是光刻对准精度不够，还有胶的均匀性问题。我们用的光刻胶是国产的，性能不稳定。”

“设备呢？”

“光刻机是上海光学仪器厂的老型号，改装的。刻蚀用反应离子刻蚀台，是二手的，从韩国买来的淘汰设备。”小周顿了顿，“倪总说，等五楼的洁净室建好，搬进去再试试。”

凌云把硅片放回托盘：“辛苦了。”

小周用力点头。

三楼是测试区。几台示波器、逻辑分析仪、探针台。一个年轻工程师正用探针扎在一片封装好的芯片上，示波器屏幕上跳动着波形。

“这是测试组。”倪光南说，“我们设计的芯片流片回来，要在这里做功能和性能测试。现在……还没流片过。”

“为什么？”凌云问。

“流片费用太高。”倪光南苦笑，“哪怕找台湾的小厂，用0.8微米工艺流一次，也要十几万美元。我们没那么多钱，而且设计没完全成熟，不敢流。”

“自己不能做吗？”

“不能。”倪光南摇头，“光刻、刻蚀、离子注入……这些工艺设备，我们一台都没有。国内也没有能代工0.8微米以下工艺的产线。上海华虹刚建，用的是日本的技术和设备，还没量产。”

“明白了。”凌云说。

参观完，倪光南带凌云上四楼。楼梯间墙上贴着标语：“自力更生，艰苦奋斗”、“造出中国芯”。

四楼会议室很大，能坐五十人。墙上挂着投影幕布，长桌上散落着图纸、数据手册、英文技术论文的复印件。

倪光南给凌云倒了杯茶，茶是茉莉花茶，香气扑鼻。

“坐，凌总。”倪光南拉把椅子坐下，掏出笔记本，“我先简单汇报一下整体情况。”