第243章 倪光南的汇报（2/3）

“凌总，你具体想怎么做？”

“分两步。”凌云说，“第一步，评估。把产业链上每个环节拆解，分析国内现有的基础和技术水平。哪些有企业可以做？哪些是空白？哪些是关键卡脖子点？”

他重新拿起笔，在白板旁边画了个表格。

环节、国内现状、可扶持企业、需自研突破、优先级。

“第二步，行动。”凌云继续说，“对有企业可以做的，我们投资、扶持、给订单，帮他们技术突破。对空白或者没人做的，我们自己成立团队，从基础研究开始，一步步啃。”

倪光南盯着表格，脑子里快速运转。他是技术专家，对整个产业链的薄弱环节了如指掌。

“硅材料，”他开口，“高纯度多晶硅，国内有厂，但纯度不够，只能做太阳能板。电子级高纯硅，基本依赖进口，日本信越、德国瓦克垄断。”

他在“硅材料”那一行的“国内现状”下面写：“有基础，但低端”。“可扶持企业”写：“洛阳单晶硅厂、峨眉半导体材料厂”。“需自研突破”写：“电子级高纯硅提纯技术”。“优先级”写：“高”。

“晶圆制备，”倪光南继续说，“拉单晶、切片、研磨、抛光，国内有设备，但精度不够。8英寸晶圆刚开始试产，成品率低。12英寸？没戏。”

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他在“晶圆制备”行记录。

“光刻系统，”倪光南叹了口气，“这是最难的。国内最好的光刻机是上海微电子装备在研的0.35微米步进式，还没量产。核心技术——光源（准分子激光）、镜头（高数值孔径物镜）、对准系统、光刻胶——全部依赖进口。”

他在“光刻系统”的“需自研突破”里，一口气写下：光源、镜头、对准、光刻胶、控制系统。优先级：“最高”。

“刻蚀机，国内有中微半导体在做，但主要做介质刻蚀，硅刻蚀还在研发。薄膜沉积设备，北方华创有做PVD，CVD还在攻关。离子注入机，几乎空白。清洗检测设备，有但低端。封装测试，国内有长电科技、华天科技，能做但技术落后国际两代。EDA工具，华大九天在做，但只能做模拟和少数数字后端，前端综合和验证工具没有。”

他一口气说下来，笔在纸上飞快记录。表格渐渐填满。

写完，他看着表格，眉头紧锁。

“几乎……每个环节都要突破。”倪光南说，“而且都是硬骨头。”

“所以才要早布局。”凌云说，“倪老，我有个想法。中心接下来，除了继续做芯片设计，还要增加一个‘产业链研究部’。任务是：”

他竖起手指：