第113章 专利的涟漪与深夜的威胁（2/3）

气氛有些凝重。

“专利的事情，请总部法务部持续跟踪，评估后续是否需要提出异议或进行外围专利布局。”高桥做出指示，“田中博士，课题组那边请继续按计划推进，但务必更加留意燧人团队的技术动向和关注点。任何异常，及时沟通。”

会议结束。田中独自留在会议室，看着屏幕上燧人专利文件里关于“等离子体能量窗口”的描述。李明恺昨天那个问题，像一根细刺，扎进了他的思绪。

燧人科技，课题组办公室。

专利提交的消息，陆晨在内部晨会上简单提了一句，要求课题组正常工作，不要主动讨论。

渡边绫似乎毫无察觉，依旧专注地做着她的样品制备和数据记录。小林信介也一如既往，大部分时间沉默地对着屏幕。

下午，李明恺按照陆晨的指示，在和小林讨论一组数据的统计分析方法时，“自然”地引入了上周那个关于设备可靠性的话题。

“小林君，上次我们聊到数据离散问题，最终归因到气体波动。我在想，对于更精密的设备，比如我们计划后续使用的双束电镜，除了环境因素，设备本身的长期稳定性，尤其是离子源这类核心部件，我们是不是也应该建立一个预测性维护模型？比如，监控其发射电流的噪声谱变化？”李明恺语气随意，像是技术上的发散思考。

小林敲击键盘的手指停顿了不到半秒。“是个有价值的课题。通常这类数据属于设备厂商的核心诊断信息，不易获取。”

“也是。”李明恺点头，“不过我看有些研究论文会通过分析样品处理后的表面状态，反过来推断离子源的工作状态。比如，特定材料在特定离子束参数下，会留下可检测的特征痕迹。”

小主，

他抛出了一个更具体的、与“特征痕迹”相关的技术钩子。

小林抬起头，第一次长时间地看着李明恺的眼睛。他的眼神平静，但深处似乎有什么东西在快速评估。“李工对设备机理研究得很深入。”

“做材料的，总得懂点设备，不然被坑了都不知道。”李明恺笑了笑，把话题拉回数据分析，“我们还是先看看这组辐照后硬度数据的分布吧，你觉得用韦布尔分布拟合好，还是用对数正态分布？”

“对于脆性材料断裂相关的数据，韦布尔分布更常用。”小林收回目光，回到屏幕，“我们可以两种都试试，对比一下拟合优度。”

试探似乎没有得到直接的反应。但李明恺注意到，在他提到“特征痕迹”时，小林右侧的眉梢几不可察地动了一下。

当晚复盘，李明恺汇报了这一点。

“他听懂了，而且很在意。”林海判断。

陆晨沉吟：“这说明崔浩给的方向是对的。设备故障，或者说特定工况下的性能衰减，确实是他们的一个技术关注点，甚至可能是弱点。这个信息，我们记下，以后可能用得上。”

他转而问：“专利提交后，他们两人在课题组有什么其他异常吗？”